有哪些材料不适合用真空烧结炉处理 　　真空烧结炉主要是用来处理金属材料的。很多金属材料都是通过高温来加工或作其他生产。那么，是否有某一类金属材料不能在真空炉中热处理呢？ 　　从理论上讲，金属材料都可以在真空烧结炉中热处理。但因技术要求、加工成本、工艺实现的难易程度等原因，下列材料（工件）不宜在真空炉中热处理。 　　1.高温对N元素敏感，易形成有害效果的材料。真空炉为防止合金元素高温时挥发，通常在高温下充高纯氮气保持分压，冷却时一般采用充氮冷却。故该类材料不宜用真空炉处理。 　　2.碳素钢。从成本角度考虑，碳钢价格较低，成品件价格较低，用真空烧结炉处理实属浪费，除非高利润工件或者工件已经没有加工余量，对表面质量要求苛刻时的权宜之计。 　　3.某些使用特殊工艺的材料（工件）。比如为获取好的机械性能，有些工件要求获得贝氏体，一般用等温淬火来实现，真空烧结炉很难实现；再如T10钢，要求高硬度、低变形，一般用水淬油冷工艺实现，真空炉虽然可以用高压气淬获得高硬度，但因在Ms点以下温度冷速较快，变形较大。 　　好了，总结的以上三种材料就是不宜在真空烧结炉中处理的金属材料了。

　　气相沉积炉的特点是什么 　　气相沉积炉可用于以碳氢气体为碳源的复合材料的化学气相沉积。其中CVD沉积炉是指高温下的气相反应，例如，金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解，氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法。这种技术开始是作为涂层的手段而开发的，但目前，不只应用于耐热物质的涂层，而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等，是一个颇具特征的技术领域。 　　设备特点在于：(1)在低温下合成高熔点物质;(2)析出物质的形态在单晶、多晶、晶须、粉末、薄膜等多种;(3)不仅可以在基片上进行涂层，而且可以在粉体表面涂层，特别是在低温下可以合成高熔点物质，在节能方面做出了贡献，作为一种新技术是大有前途的。 　　下面小编详细列举几条炉子的特点，以便大家能更好的了解炉子的性能。 　　气相沉积炉工作区尺寸可达2.5m×2m×4.5m，能满足超大型工件化学气相沉积处理需求；并且，采用多温区独立控温，温度均匀性好； 　　与此同时采用特殊结构沉积室，密封效果好，抗污染能力强； 　　气相沉积炉采用多通道沉积气路，流场均匀，无沉积死角，沉积效果好； 　　气相沉积炉对炭沉积过程中产生的焦油、固体粉尘、有机气体等能进行有效处理。