实验室用的真空甩带炉参数介绍 　　实验室用的真空甩带炉是专为大学研究所研发设计的用于非晶材料制备的专用实验仪器。它是用来制备和开发亚稳材料(如非晶态材料)的专用设备，该设备除了具有感应炉的全部特点外，还具有制备块体金属非晶及金属薄带的功能,适用于各种非晶及立博app官网材料的研究及实验工作,，广泛用于新型稀土永磁材料非晶软磁材料及纳米材料科学的开发与研究。可选配喷铸功能。 　　下面是实验室用的真空甩带炉主要技术参数 　　1.样品大熔炼量：20g; 　　2.辊轮尺寸：φ200mmx40(不带水冷); 　　3.铜棍速度：1-3000r/min; 　　4.真空度：优于5x10-4Pa; 　　5.真空甩带炉熔炼电源功率：7KW; 　　6.熔炼温度：500℃-1700℃，满足绝大多数实验要求; 　　7.熔炼坩埚：氮化硼及石英; 　　8.条带宽度：1-10mm; 　　9.真空腔尺寸：300×300×480mm(L*W*H) 　　10.真空甩带炉尺寸：620*560*780m（L*W*H） 　　11.标配：主机及感应熔炼电源 　　12.真空熔炼炉桌面式设计，占地空间小，特别节约实验空间和能源

　　真空烧结炉的主要特点有哪些呢 　　真空烧结炉主要用于半导体元器件及电力整流器件的烧结工艺，可进行真空烧结，气体保护烧结及常规烧结。是半导体专用设备系列中一种新颖的工艺装备，它设计构思新颖，操作方便，结构紧凑，在一台设备上可完成多个工艺流程。 　　同时，真空烧结炉亦可用于其他领域内的真空热处理，真空钎焊等工艺。设备分为单工位、双工位及多工位。下面我们就看看它的主要特点： 　　1、关键件全部采用进口件，具有高可靠性； 　　2、真空烧结炉具有可编程的升、降温功能； 　　3、具有断电报警、超温报警、极限超温报警等多种安全保护功能； 　　4、真空烧结炉具有高抗干扰能力； 　　5、真空甩带炉具有多种工艺管路，可供用户随意灵活配置。